目前主要的顯示器件有CRT(陰極射線管)、TN/STN-LCD(扭曲/超扭曲液晶顯示器)、TFT-LCD(薄膜晶體管液晶顯示器)、FED(場發(fā)射顯示器)、VFD(真空熒光顯示器)、OLED(有機發(fā)光顯示器)和PDP(等離子顯示器)。人們?nèi)粘I?、工作中的大屏幕電視、計算機顯示器、筆記本電腦、手機、數(shù)碼相機、數(shù)碼攝像機等終端產(chǎn)品無一不是上述顯示器件的應(yīng)用。而生產(chǎn)制作顯示器件需要的關(guān)鍵材料之一即為“高精度的玻璃掩膜版(wafer)”,掩膜版的主要基礎(chǔ)材料為石英玻璃或蘇打玻璃,石英玻璃或蘇打玻璃經(jīng)過精密加工后表面鍍覆光刻曝光用膈膜。目前國際上光掩?;宓闹圃旒夹g(shù)主要是日本、韓國、中國臺灣處于領(lǐng)先地位,近兩年來我國部分企業(yè)在跟蹤國際現(xiàn)金技術(shù)的前提下,在各地政府的高調(diào)支持下已逐步建成自主知識產(chǎn)權(quán)的光掩?;迳a(chǎn)線?,F(xiàn)階段玻璃精密加工技術(shù)、鍍膜、光刻技術(shù)已接近國際先進(jìn)技術(shù),但在關(guān)鍵基礎(chǔ)材料----石英玻璃的制備方面與國際先進(jìn)水平尚有一定距離,高純度(SiO2含量99.9999%以上)、小尺寸(8in(lin=2.54cm)、200*200mm以下)可自主生產(chǎn),大尺寸的石英玻璃基板制備處于落后狀態(tài),仍需依賴進(jìn)口,而在生產(chǎn)光掩?;宓恼麄€過程匯總玻璃基片所占的比例為70%。
目前國內(nèi)已可規(guī)?;a(chǎn)的應(yīng)用于液晶顯示器(LCD)、有機電致發(fā)光顯示器(OLED)、等離子體顯示板(PDP)等平板顯示(FPD)行業(yè)和集成電路(IC)及其封裝(ICP)等行業(yè)鉻板掩膜版有:
1、 TFT、彩色STN、STN和TNLCD鉻板掩膜版;
2、 EL、OLED鉻板掩膜版
3、 PDP、VFD鉻板掩膜版
4、 IC封裝、HDI,包括BGA、CSP、BUMPING等生產(chǎn)用鉻板掩膜版
5、 IC Lead Frame用鉻板掩膜版
6、 MEMS、SENSOR和ENCODER等精細(xì)電子元器件用鉻板掩膜版。
玻璃基片所用材料由所生產(chǎn)的顯示器的種類、規(guī)格尺寸決定,主要有兩種:石英玻璃和蘇打玻璃。一般小尺寸、高分辨率的用石英玻璃,大尺寸、分辨率要求低的用蘇打玻璃。而石英玻璃基片通常需要采用SiCl4合成法熔煉的高純、高均勻合成石英玻璃。
在規(guī)格尺寸方面,國際上已有通用標(biāo)準(zhǔn),如標(biāo)準(zhǔn)“Square型”;2500型即為63.1*63.1*1.5mm、6025型為152*152*6.35mm、7012型為177.4*177.4*3.05mm。標(biāo)準(zhǔn)“Square型”:P7015型為D184.15*L177*T3.8mm、P7025型為D184.15*L177*6.35mm。
在外觀表面缺陷方面,基片對材質(zhì)及加工質(zhì)量要求非常高,需要在暗室使用50000Lm照度下進(jìn)行檢測,不允許有下列缺陷:裂紋、面凹坑、不透明雜質(zhì)、氣泡、條紋、凸棱、切割缺陷、擦傷及其他任何不能100%清除的污染等。
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