機(jī)械拋光是傳統(tǒng)的拋光方法，機(jī)械拋光的操作是在類似研磨機(jī)的拋光機(jī)上進(jìn)行，玻璃的機(jī)械拋光是指用低速旋轉(zhuǎn)的軟質(zhì)彈性或黏彈性材料跑光盤，或高速旋轉(zhuǎn)的低彈性材料拋光盤，通過添加拋光劑，獲得具有一定研磨性質(zhì)的光滑表面的加工方法。拋光時借助拋光材料使制品表面拋光，常見的拋光材料有木輪、棕輪、毛氈等。
玻璃的機(jī)械拋光機(jī)理，一般都認(rèn)為是磨料對玻璃的機(jī)械作用，拋光不過是比湮沒更細(xì)而已，在拋光材料的作用下，發(fā)生了分子過程。
玻璃的拋光效率是以單位時間內(nèi)玻璃的拋光量來表示的，它與研磨玻璃的表面質(zhì)量、拋光盤的壓力和轉(zhuǎn)速、拋光粉的消耗量、介質(zhì)的特性、玻璃表面的溫度和環(huán)境溫度、加速劑的使用、玻璃成分、跑光盤的材質(zhì)等有關(guān)。
拋光使用的磨粒是1um以下的微細(xì)磨粒。拋光加工模型如圖所示。
采用化學(xué)侵蝕拋光玻璃時，除使用氫氟酸外，還要加入能使侵蝕生成物溶解的添加物。一般采用硫酸，硫酸具有酸性強(qiáng)、沸點高、不易揮發(fā)、室溫下比較穩(wěn)定等特點，故通常將硫酸加入氫氟酸中配成拋光液。另外，因氫氟酸易揮發(fā)。侵蝕性強(qiáng)，故需要在密閉條件下進(jìn)行拋光，同時要對拋光過程中產(chǎn)生的廢氣、廢水進(jìn)行嚴(yán)格的處理。
影響化學(xué)拋光的因素如下。
1、玻璃的成分 一般情況下鈉鈣硅玻璃拋光比較困難，效果較差，含鉛玻璃化學(xué)拋光效果較好。
2、拋光液的成分 特別是拋光液中氫氟酸和硫酸的比例構(gòu)成，要根據(jù)玻璃的成分進(jìn)行調(diào)整。一般的鉛晶質(zhì)玻璃配方中：7%~10.5%的氫氟酸和58%~65%的硫酸。對鈉鈣硅玻璃來說，水、氫氟酸、硫酸的體積比例為1：（1.62~2）：（2.76~3）。
3、拋光溫度 溫度過低則反應(yīng)慢，溫度過高反映劇烈，一般以40~50℃為宜。
4、處理時間 處理時間短，拋光作用不完全，處理時間長則玻璃表面會有鹽類沉積物，因此具體的拋光時間，應(yīng)依據(jù)拋光液的配比、處理溫度等來決定。一般情況下采用短時間多次拋光的方法來處理，每次處理時間在6~15s左右，處理次數(shù)不超過10次，若處理次數(shù)過多易在表面形成波紋等缺陷；每次酸處理完后都應(yīng)將玻璃表面用水沖洗以去掉沉淀的鹽類。
化學(xué)機(jī)械拋光，1965年Walsh和Herzog首次提出了化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)，之后逐漸被應(yīng)用。拋光時，旋轉(zhuǎn)的工件以一定的壓力施于隨工作臺儀一起旋轉(zhuǎn)的拋光墊上，而由亞微米或納米磨料和化學(xué)溶液組成的拋光液在工件與拋光墊之間流動，并在工件表面產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，工件表面形成的化學(xué)反應(yīng)物由磨料的機(jī)械摩擦作用去除。在化學(xué)成膜與機(jī)械成膜的交替過程中，通過化學(xué)與機(jī)械的共同作用從工件表面去除極薄的一層材料，最終實現(xiàn)超精密表面加工。兩個過程的快慢綜合和一致性影響著工件的拋光速度和拋光質(zhì)量。拋光速度主要由這兩個過程中速度較慢的過程所控制。因此，要實現(xiàn)高效率、高質(zhì)量的拋光，必須使化學(xué)作用過程與機(jī)械作用過程進(jìn)行良好的匹配。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械磨削作用則在拋光面表面產(chǎn)生腐蝕坑、橘皮狀波紋；如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用則在拋光表面產(chǎn)生高損傷層和劃倒。
化學(xué)機(jī)械拋光利用氫氟酸溶液的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械拋光結(jié)合，使玻璃表面達(dá)到光滑。這在實質(zhì)上有別于酸拋光（化學(xué)拋光）。在酸液中還添加一些時鹽類溶解或使鹽類緩慢溶解成細(xì)微粒的物質(zhì)，如有的加NH4F和NH4HF2，有的加有機(jī)物如異戊基乙酸鹽和甘油，也有的添加一些氧化劑。用磨盤和拋光劑使玻璃表面凸出的部位機(jī)械拋光，同時玻璃又受到拋光劑中酸液的腐蝕，如此反復(fù)，直到玻璃變平滑。這是一種高效拋光法，但僅適用于平板玻璃和形狀簡單、表面無花紋的制品。
平板玻璃精細(xì)拋光機(jī)如圖所示，主要用于STN-LCD、TFT-LCD玻璃幾片或其他玻璃及硬脆材料的單面高精度、高效率拋光。主要特點：拋光盤、搖臂、拋光頭的驅(qū)動電機(jī)均采用變頻器調(diào)速，可實現(xiàn)緩啟動、定點停車；拋光液由上盤兩側(cè)及下盤中心通過電泵循環(huán)加注，滿足了拋光的工藝要求；壓力采用氣動三段加壓（反壓、自重、正壓）；本機(jī)的跑光盤由主電機(jī)通過渦輪蝸桿減速器驅(qū)動，主軸采用交叉滾子軸承，支撐剛度穩(wěn)定、可靠；搖臂移動采用龍門式平行移動（滾動導(dǎo)軌副），滾動絲杠副由電機(jī)驅(qū)動，壓力均勻，速度穩(wěn)定；拋光頭的翻轉(zhuǎn)方式采用恒力矩翻轉(zhuǎn)，極限位置機(jī)械鎖定，保證了運轉(zhuǎn)的平穩(wěn)性和操作的安全性；電控方面采用可編程控制器（PLC）控制，可根據(jù)用戶要求設(shè)定運行程序；可實現(xiàn)動態(tài)接觸啟動。
跑光盤直徑：φ800~2000mm
拋光頭直徑：φ600~1800mm
搖臂移動幅度：±300mm
拋光頭相對跑光盤偏心量：0~120mm
拋光工件最小厚度：0.40mm
下拋光盤轉(zhuǎn)速：0~100r/mim
搖臂移動速度：0~150mm/s
拋光頭升降行程：60mm
拋光頭翻轉(zhuǎn)角度：90°
精密指標(biāo)如下：
拋光盤平面度：0.02mm
拋光盤端面跳動公差：0.06mm
拋光頭平面度：0.02mm
噪聲指標(biāo)：≤70dB(A)
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