石英玻璃光學(xué)均勻性
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石英玻璃做光學(xué)質(zhì)量的一個(gè)重要指標(biāo)是光學(xué)均勻性，它表示各向同性介質(zhì)內(nèi)部折射率均勻的程度。光通過(guò)不均勻的介質(zhì)時(shí)，將出現(xiàn)波面的畸變，畸變的大小取決于折射率差與厚度的乘積，它降低分辨率及成像的質(zhì)量。因此，凡能引起折射率變化的因素都直接影響石英玻璃的光學(xué)均勻性：通常，金屬雜質(zhì)會(huì)使折射率增加，石英玻璃中的水（羥基）會(huì)使折射率降低，羥基分布的存在梯度則折射率就會(huì)存在梯度；由于干涉效應(yīng)顆粒結(jié)構(gòu)及微氣泡改變折射率，這些都將最終影響石英玻璃的光學(xué)均勻性。
通常采用準(zhǔn)直管（平行光管）法測(cè)定。
光學(xué)均勻性的高低與熔制工藝關(guān)系較大，一般就光學(xué)石英玻璃而言，合成石英玻璃（III型、IV型）因雜質(zhì)含量低且無(wú)顆粒結(jié)構(gòu)而具有很高的光學(xué)均勻性，而水晶原料熔融石英玻璃（I型、II型）因含有較多的雜質(zhì)及顆粒結(jié)構(gòu)，光學(xué)均勻性較低。
將石英玻璃在真空加壓爐內(nèi)，進(jìn)行高溫、高壓均化處理可大大改善石英玻璃中的顆粒結(jié)構(gòu)、微氣泡、羥基分布等，因此可顯著提高原石英玻璃的光學(xué)均勻性。
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