真空蒸鍍法是利用真空狀態(tài)下分子運動特性的一種工業(yè)鍍膜方法。物質(zhì)所在空間的壓力等于它在這一溫度的飽和蒸氣壓時，此物質(zhì)就會大量蒸發(fā)出蒸氣分子。在真空室內(nèi)，物質(zhì)達到飽和蒸氣壓的溫度將大大降低，例如：金屬鋁在大氣壓(0.1MPa)下需要加熱到2467攝氏度才能大量蒸發(fā)。但如果在真空度為10-4Pa的空間里，僅需要加熱到768攝氏度，鋁就可以蒸發(fā)。真空蒸鍍法就是利用各種金屬在真空中，氣體分子的平均自由程加大導(dǎo)致蒸發(fā)速度加快的特性進行鍍膜工藝的方法。具體實施的方法是將待鍍膜的潔凈的玻璃基片置入真空室中，同時將所鍍的金屬(一般用金屬絲)放入真空室中的鎢絲圈內(nèi)。將真空室抽至高真空中，同時將所鍍的金屬(一般用金屬絲)放入真空室中的鎢絲圈內(nèi)。將真空室抽至高真空(一般為5*10-2~1.3*10-3Pa),此時向鎢絲圈通電，它產(chǎn)生的高溫足以使所放入的金屬絲在真空度下完全蒸發(fā)。金屬蒸氣質(zhì)點沉積在玻璃表面上，形成一層具有一定黏結(jié)強度的金屬膜。玻璃基片在真空室的放置方法有兩種：一種是每兩片玻璃為一組疊著放置，相靠的一面沒有金屬膜，向外的一面則鍍上一層金屬膜;另一種是兩片玻璃相對垂直放置，中間排列若干組鎢絲圈及金屬絲，相向的一面鍍上金屬膜。若蒸發(fā)的金屬是鋁而膜層又較厚時，所制得的產(chǎn)品為鋁鏡。若蒸發(fā)的金屬為熱反射膜膜料，而膜層的厚度又較薄時，則所制得的產(chǎn)品為熱反射膜玻璃。

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