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建筑玻璃中的膜類分類

作者:奧固鴻已有:N多人關(guān)注

　　一、薄膜的概念和分類

　　采用一定的方法，使處于某種狀態(tài)的一種或幾種物質(zhì)(原材料)的基因以物理或化學(xué)方式附著于襯底材料的表面，在襯底材料表面形成一層新的物質(zhì)，這層新物質(zhì)就是薄膜。簡(jiǎn)而言之，薄膜就是由離子、原子或分子的沉積過(guò)程形成的二維材料。

　　薄膜分類

　　(1) 按物態(tài)分類：氣態(tài)，液態(tài)，固態(tài)。

　　(2) 按結(jié)晶態(tài)分類：非晶態(tài)：原子排列短程有序，長(zhǎng)程無(wú)序。

　　晶態(tài)：又分為單晶和多晶;單晶為外延生長(zhǎng)，在單晶基地上同質(zhì)和異質(zhì)外延，多晶在一襯底上生長(zhǎng)，由許多取向相異單晶集合體組成。

　　(3) 按化學(xué)角度分類：有機(jī)薄膜和無(wú)機(jī)薄膜。

　　(4) 按組成分類：金屬薄膜和非金屬薄膜

　　(5) 按物性分類：硬質(zhì)薄膜、聲學(xué)薄膜、熱學(xué)薄膜、金屬導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、超導(dǎo)薄膜、介電薄膜、磁阻薄膜、光學(xué)薄膜。

　　二、制備工藝

　　薄膜制備工藝包括：薄膜制備方法的選擇，基體材料的選擇及表面處理，薄膜制備條件的選擇等。

　　(一)基體的選擇

　　在薄膜制備過(guò)程中，基體的選擇與其他制備條件同樣重要，有時(shí)可能更重要，基體選擇的原則是：

　　(1)是否容易成核和生長(zhǎng)成薄膜;

　　(2)根據(jù)不同的應(yīng)用目的，選擇金屬(或合金)、玻璃、陶瓷單晶和塑料等作基體;

　　(3)薄膜結(jié)構(gòu)與基體材料結(jié)構(gòu)要對(duì)應(yīng);

　　(4)要使薄膜和基體材料的性能相匹配，從而減少熱應(yīng)力，不使薄膜脫落;

　　(5)要考慮市場(chǎng)供應(yīng)情況、價(jià)格、形狀、尺寸、表面粗糙度和加工難易程度等。

　　(二)基片的清洗

　　1、概述

　　由于薄膜厚度很薄，基片表面的平整度、清潔度都會(huì)對(duì)所生長(zhǎng)的薄膜有影響?；砻娴娜魏我稽c(diǎn)污物都會(huì)影響薄膜材料的性能和生長(zhǎng)情況。由此可見，基片的清洗是十分重要的。

　　基片的清洗方法主要根據(jù)薄膜生長(zhǎng)方法和薄膜使用目的選定，因?yàn)榛砻鏍顟B(tài)嚴(yán)重影響基片上生長(zhǎng)出的薄膜結(jié)構(gòu)和薄膜物理性質(zhì)。

　　2、基片的清洗方法

　　一般分為去除基片表面上物理附著的污物的清洗方法和去除化學(xué)附著的污物的清洗方法。

　　目前，基片清洗方法有：用化學(xué)溶劑溶解污物的方法、超聲波清洗法、離子轟擊清洗法、等離子體清洗法和烘烤清洗法等。

　　(三)薄膜的制備條件

　　真空技術(shù)是制備薄膜的基礎(chǔ)，真空蒸發(fā)，濺射鍍膜和離子鍍等均要求沉積薄膜的空間要有一定的真空度，因而獲得并保持真空環(huán)境是鍍膜的必要條件。

　　1、真空的概念

　　“真空”拉丁文Vacuo，其意義是虛無(wú)。真空是指氣體較稀薄的空間。真空是一個(gè)相對(duì)的概念“低于一個(gè)大氣壓的氣體狀態(tài)。”真空狀態(tài)是氣體分子運(yùn)動(dòng)的動(dòng)態(tài)結(jié)果。標(biāo)準(zhǔn)狀況下氣體的分子密度約為 3x1019 個(gè)/cm3，1 /104大氣壓下氣體的分子密度約為 3x1015 個(gè)/cm3。